광전 변환 소자 제조 장치 및 방법, 그리고 광전 변환 소자

Apparatus and method for manufacturing photoelectric conversion elements, and photoelectric conversion element

Abstract

"The invention provides a photoelectric conversion element manufacturing apparatus that forms a semiconductor stack film on a substrate by using microwave plasma CVD. The apparatus includes a chamber which is a enclosed space containing a base, on which the a subject substrate for thin-film formation is mounted, a first gas supply unit which supplies plasma excitation gas to a plasma excitation region in the chamber, a pressure regulation unit which regulates pressure in the chamber, a second gas supply unit which supplies raw gas to a plasma diffusion region in the chamber, a microwave application unit which applies microwaves into the chamber, and a bias voltage application unit which selects and applies a substrate bias voltage to the substrate according to the type of gas."
(과제) 마이크로파 플라즈마에서의 고효율?고속 성막과 동시에, 산소 혼입을 저지하고, 결함수를 저감시킬 수 있는 광전 변환 소자 제조 장치 및 방법, 그리고 광전 변환 소자를 제공하기 위한 것이다. (해결 수단) 본 발명은, 기판(W)상에 반도체의 적층막을 마이크로파 플라즈마 CVD법에 의해 성막시키는 광전 변환 소자 제조 장치(100)에 있어서, 박막을 성막시키고자 하는 대상의 기판(W)이 올려놓여지는 기대(base)를 내장하는 밀폐 공간인 챔버(10)와, 상기 챔버(10) 내의 플라즈마 여기 영역에 플라즈마 여기 가스를 공급하는 제1 가스 공급부(40)와, 상기 챔버(10) 내의 압력을 조정하는 조압부(70)와, 상기 챔버(10) 내의 플라즈마 확산 영역에 원료 가스를 공급하는 제2 가스 공급부(50)와, 마이크로파를 상기 챔버(10) 내에 도입하는 마이크로파 인가부(20)와, 상기 기판(W)에 대하여 기판 바이어스 전압을 상기 가스종에 따라서 선택하여 인가하는 바이어스 전압 인가부(60)를 구비한다.

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