프로세스 챔버

Process chamber

Abstract

실시예에 따른 프로세스 챔버는, 에피택셜 웨이퍼를 형성하기 위한 메인 챔버; 반응가스의 공급 또는 배출을 위하여 상기 메인 챔버의 일측면에 형성된 개구부; 및 상기 개구부를 통해 상기 메인 챔버 내부를 향해 일정 깊이로 삽입 또는 분리되는 서포트 챔버를 포함한다. 에피택셜 웨이퍼, 챔버

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